"Фотолитография в электронике"

ФГБОУ ВО «Московский государственный университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)»

"Фотолитография в электронике"

Дата проведения: 15 Сен 2018 , время проведения 11:00-12:30, продолжительность: 1 ч. 30 м.
Максимальное количество участников: 45
Дата и время окончания регистрации: 14 Сен 2018 18:00
Форма: Практикум
Тематика: Техника и технологии
Целевая аудитория: Студенты колледжей Школьники 10 - 11 классов

Фотолитография – современный метод получения проводящего рисунка, применяемый при производстве печатных плат, а также в микро- и наноэлектронике. Использование фотолитографии позволят получать микрообъекты, размеры которых составляют несколько нанометров. Например, использование имерсионной фотолитографии позволяет получить разрешение в 11 нанометров.

Вход на мероприятие по предварительной регистрации на сайте  Университетские субботы http://us.dogm.mos.ru/.  При входе в здание необходимо зарегистрироваться на месте.

Наличие ПАСПОРТА школьников и взрослых ОБЯЗАТЕЛЬНО.

Преподаватель - Адамова Арина Александровна, доцент кафедры «Проектирование и технология производства электронной аппаратуры»

Адрес проведения

Россия, Москва, 2-я Бауманская улица, 5с1

Место проведения

Главный Учебный корпус, 1-я проходная, сбор во дворе у памятника

Проезд:

Станция м. Бауманская, далее пешком до ул. 2-я Бауманская, д.5, стр.1, Проходная №1, Главный учебный корпус